鹽霧試驗箱試驗溶液需用氯化鈉和水進行配比，金屬的鹽霧腐蝕屬電化學腐蝕，鹽中雜質的多少對鹽霧試驗結果有很大影響，如：NaI過量時，無形中會增加金屬間的電位差或使金屬形成保護表面，從而影響金屬腐蝕速率;Cu、Ni離子具有加速腐蝕和干擾試驗結果的作用，尤其是Ni鍍層、Cr鍍層，與實際條件下所得結果的對比性差，使中性鹽霧試驗的可靠性欠佳，因此必須嚴格控制Cu、Ni雜質含量。

　　德國大眾和法國PSA的控制內容大致相當，只是雜質的總質量分數有所不同，二者之間的關系相當于分析純NaCl與優(yōu)級純NaCl的差異。

　　日產標準的內容與現行的GB1266-2006《化學試劑 氯化鈉》大致相當，但GB1266-2006僅對碘化物有要求，對Cu、Ni則無要求。日產標準對鹽霧試驗箱用水的要求極其嚴格，其用水標準相當于GB/T6682-2008《分析實驗室用水規(guī)格和試驗方法》標準中的二級水。這與日產對NaCl中雜質含量的要求較為寬松、需要嚴控水中的電導率有關。鹽霧試驗箱這種苛刻的試驗用水條件將會大大增加使用日產標準的鹽霧試驗成本。